在集成电路芯片制造及电子专用材料生产过程中，超纯水直接接触产品表面，水中微量金属离子、颗粒物、有机物都会导致产品缺陷或良率下降。客户亟需一套连续稳定运行、无需专人值守的超纯水系统，确保产水电阻率稳定≥15MΩ·cm，且管道材料需避免金属离子析出污染产线。

信德水处理技术团队深入客户现场，结合原水水质、用水峰值及电子行业超纯水标准，量身定制了预处理+双级反渗透+EDI+恒压变频供水的成熟工艺路线，并选用U-PVC超洁净管作为输送管道，从源头杜绝金属污染。

本套设备采用以下核心工艺单元

预处理系统

由多介质过滤器、活性炭过滤器、阻垢加药系统、保安过滤器组成。有效去除原水中悬浮物、余氯、胶体及硬度离子，防止反渗透膜结垢，保障后续膜系统长期稳定运行。

一级反渗透（RO）

完成初级深度脱盐，去除绝大部分溶解性盐类、有机物及细菌，大幅降低水体含盐量。

pH调节加药系统

精准调节一级RO产水pH值，为二级反渗透提供最佳进水条件，提升整套系统综合脱盐效率。

二级反渗透（2-RO）

二次脱盐，进一步降低电导率，确保EDI进水水质稳定。

EDI（连续电除盐）

采用无酸碱再生环保工艺，持续去除水中微量离子，稳定产出电阻率≥15MΩ·cm的超纯水，水质波动极小。

恒压供水变频系统

根据用水点需求自动调节供水压力与流量，节能降耗，同时保障末端用水稳定

全自动PLC控制：一键启停，自动运行，实时监测电导率、电阻率、流量、压力等关键参数，设备状态可视化。

自动正反洗：多多介质过滤器、活性炭过滤器按预设周期自动完成正洗、反洗，维持过滤性能稳定，减少人工操作。

自动报警系统：出现低压、高压、缺水、过载等异常时，系统自动声光报警。

无人值守设计：日常运行无需人工干预，大幅降低客户运维成本，适配工厂连续生产模式。

水质达标：产水电阻率稳定≥15MΩ·cm，满足集成电路芯片制造、电子专用材料及新材料研发的严苛用水要求。

杜绝金属污染：U-PVC超洁净管输送，从管道材质上避免金属离子析出，保障产品良率。

稳定可靠：双级RO+EDI核心工艺，水质波动极小，24小时连续稳定产水。

节能省心：恒压变频供水按需调节能耗，全自动运行无需专人看守，降低人工与运维成本。

  专注于纯水设备、 超纯水设备、纯化水设备、注射      用水设备 等水处理设备的研发与制造。

  我们服务于电子半导体、生物医药、医疗器械、新能    源、化妆品、食品饮料、新材料、实验室等多个高端    行业，致力于为客户提供 稳定、合规、高效 的水系    统解决方案。

  从工艺设计到设备交付，从系统验证到长期运维，我    们始终以专业为基石，以客户需求为核心。